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CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 產(chǎn)品性能穩定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護。

CIF勻膠機轉速穩定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結構緊湊實(shí)用，為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時(shí)可實(shí)現常規等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。

紫外臭氧清洗機（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數無(wú)機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機污染物。

CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機，采用 RIE 反應離子誘導激發(fā)方式，實(shí)現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性?xún)r(jià)比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構形進(jìn)行 RIE 反應離子刻蝕。

CIF推出全新一代 CPC-10系列實(shí)驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗室小批量中試生產(chǎn)。

CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗室型等離子體清洗設備， 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低， 性?xún)r(jià)比高， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué)， 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗室小批量中試生產(chǎn)。

CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 產(chǎn)品性能穩定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護。