簡(jiǎn)要描述:CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗室型等離子體清洗設備, 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性?xún)r(jià)比高, 處理快速高效, 特別適合于大學(xué), 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗室小批量中試生產(chǎn)。
產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category詳細介紹
品牌 | CIF | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
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應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,地礦,能源,交通 |
產(chǎn)品特點(diǎn):
◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面,自動(dòng)控制監測工藝參數狀態(tài),20 個(gè)配方程序,工藝數據可存儲追溯。
◆ PLC 工控機控制整個(gè)清洗過(guò)程,手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。
◆ 石英真空艙,真空管路系統采用 316 不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無(wú)污染。
◆ 采用質(zhì)量流量計,實(shí)現對氣體輸入精準控制,改變傳統浮子流量計控制氣體流量不準確問(wèn)題。
◆ HEPA 高效過(guò)濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。
◆ 60 度傾角操作界面設計,符合人體功能學(xué),操作方便,界面友好。
◆ 頂置真空艙,上開(kāi)蓋設計,下壓式鉸鏈開(kāi)關(guān)方式,開(kāi)關(guān)蓋方便。
◆ 采用花灑式多孔進(jìn)氣方式,改變傳統等離子清洗機單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。
◆ 上置式 360 度自由水平取放樣品托盤(pán)設計,符合人體功能學(xué),操作更方便。
◆ 有效清洗面積大,可清洗最大直徑 8 吋硅片。
◆ 安全保護,艙門(mén)打開(kāi),自動(dòng)關(guān)閉電源。
技術(shù)參數:
型號 | CPC-G | CPC-Gplus |
射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz |
射頻功率 | 0-600W | 0-150W |
匹配器 | 自動(dòng)匹配 | |
激發(fā)方式 | 電容式 | |
氣體控制 | 單路 MFC(可選兩路) | |
艙體尺寸 | H100xΦ269mm | |
艙體容積 | 5.6L | |
艙體材質(zhì) | 石英玻璃 | |
有效處理尺寸 | Φ269mm 圓盤(pán) | |
時(shí)間設定 | 9999 秒 | |
真空泵 | 抽速 4m3/h | |
氣體穩定時(shí)間 | 1 分鐘 | |
真空度 | 100pa 以?xún)?/span> | |
電 源 | AC220V 50/60Hz 752/302W | |
產(chǎn)品尺寸 | L425xW480xH445mm | |
包裝尺寸 | L550xW630xH700mm | |
整機重量 | 30kg |
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