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CIF-Spin Processor轉速穩定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結構緊湊實(shí)用，為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

Spin Coater勻膠機進(jìn)行滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個(gè)基片上都涂到膠。動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速（通常在500轉/分左右）旋轉的同時(shí)進(jìn)行滴膠，“動(dòng)態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開(kāi)，減少光刻膠的浪費，采用動(dòng)態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕（鋪展覆蓋）整個(gè)基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動(dòng)態(tài)滴膠尤其適用，不會(huì )產(chǎn)生針孔。

CIF 推出的旋涂機系列產(chǎn)品轉速穩定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結構緊湊實(shí)用，為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。

CIF勻膠機轉速穩定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結構緊湊實(shí)用，為實(shí)驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。