勻膠旋涂?jì)x具有勻膠效率高，使用方便等特點(diǎn)。其勻膠速度、時(shí)間分多個(gè)時(shí)段，并分別無(wú)級可調。面對眾多的品牌，在選購合適的勻膠旋涂?jì)x時(shí)您可以關(guān)注哪些因素呢？
 

　　1、旋轉速度： 轉速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實(shí)際轉速如果誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲得準確的實(shí)驗數據的。
 

　　2、尺寸選擇，根據尺寸的不同選擇不同大小的機型。
 

　　3、材質(zhì)的選擇：對于半導體化工行業(yè)的應用來(lái)說(shuō)，材質(zhì)的選擇尤為關(guān)鍵，大部分勻膠機采用的是不銹鋼或者普通塑料材質(zhì)，因為這種材質(zhì)的成本很低，不銹鋼的對于各類(lèi)化工膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對于較高溫度和壓力下易產(chǎn)生變形。如果這種變形引起托盤(pán)的位置失去水平的話(huà)，將會(huì )導致旋涂時(shí)，時(shí)高時(shí)低的顛簸狀態(tài)。自然無(wú)法得到好的旋涂效果。
 

 

　　勻膠旋涂?jì)x在勻膠過(guò)程中基片的加速度也會(huì )對膠膜的性能產(chǎn)生影響。因為在基片旋轉的第一階段，光刻膠就開(kāi)始干燥(溶劑揮發(fā))了。所以精確控制加速度很重要。在一些勻膠過(guò)程中，光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過(guò)程開(kāi)始的幾秒鐘內揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠，加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用。在許多情況下，基片上已經(jīng)由前面工序留下來(lái)的精細圖形。因此，在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過(guò)程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力，而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力(twisting force),這個(gè)扭力使光刻膠在已有圖形的周?chē)㈤_(kāi)，這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。
 

　　所有勻膠過(guò)程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì)(如所用溶劑體系的揮發(fā)性)，而且還取決于勻膠過(guò)程中基片周?chē)目諝鉅顩r。一塊濕布在干燥有風(fēng)的日子干得快，而在潮濕氣候條件下干得慢。光刻膠的干燥速度與此相似，也受周?chē)h(huán)境條件的影響。