紫外臭氧清洗機(UV-O3清洗機)是利用紫外光和臭氧來(lái)清洗表面的設備。它在很多領(lǐng)域如半導體、光電子、生物醫藥等起著(zhù)重要作用。紫外光位于可見(jiàn)光和X射線(xiàn)之間的電磁輻射波段，其波長(cháng)范圍約為10納米到400納米。紫外光具有高能量和較短的波長(cháng)，可以擊穿并分解分子的化學(xué)鍵，從而實(shí)現清洗作用。臭氧是一種具有強氧化性的氣體，常用符號為O3。當臭氧與目標表面接觸時(shí)，臭氧分解成氧和自由氧原子，這些原子能夠與去除污染物的表面發(fā)生反應，從而清洗表面。
 

　　紫外臭氧清洗機的清洗過(guò)程：
 

　　a.加載物件：將待清洗的物件放置在清洗室中，通常采用無(wú)塵室或密閉式工作環(huán)境，以避免再次受到其他污染。
 

　　b.紫外輻照：打開(kāi)紫外燈，使紫外光直接照射到物件表面。紫外光能夠通過(guò)分解和氧化的方式清除有機和無(wú)機污染物。
 

　　c.臭氧注入：打開(kāi)臭氧發(fā)生器，將臭氧氣體引入清洗室。臭氧具有更強的氧化性，可以進(jìn)一步清除難以去除的污染物。
 

　　d.清洗周期：根據需要，設定清洗的時(shí)間和紫外光和臭氧的配比。在清洗過(guò)程中，紫外光和臭氧會(huì )不斷作用于物件表面。
 

　　e.排氣和通風(fēng)：清洗完成后，關(guān)閉紫外燈和臭氧發(fā)生器，排出清洗室中的殘余臭氧和其他廢氣，并進(jìn)行適當的通風(fēng)換氣。
 

　　紫外臭氧清洗機能夠去除表面的有機物、雜質(zhì)等污染物，具有環(huán)保的特點(diǎn)。其清洗效果受多個(gè)因素影響，包括清洗時(shí)間、紫外光強度、臭氧濃度、物件表面性質(zhì)等。結合了紫外光和臭氧的作用，能夠清洗表面污染物。其原理簡(jiǎn)單但功能強大，廣泛應用于各個(gè)領(lǐng)域。