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等離子清洗機主要是依靠等離子體中的活性粒子達到去污效果

更新時(shí)間:2021-04-09       點(diǎn)擊次數:1102
   等離子清洗機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),用真空泵實(shí)現一定的真空度,隨著(zhù)氣體愈來(lái)愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(cháng),受電場(chǎng)作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿(mǎn)足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會(huì )發(fā)出輝光,故稱(chēng)之為輝光放電處理。
  等離子清洗機優(yōu)點(diǎn):
  1.環(huán)保技術(shù):等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無(wú)污染。
  2.廣泛性:不分處理對象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗改性。
  3.溫度低:接近常溫,特別適于高分子材料,比電暈和火焰方法有較長(cháng)保存時(shí)間和較高表面張力。
  等離子清洗機的機理主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來(lái)看,等離子體清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。
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