等離子清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

    等離子清洗機已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒(méi)有等離子清洗機及其清洗技術(shù)，就沒(méi)有今日這么發(fā)達的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗機及其清洗技術(shù)也應用在光學(xué)工業(yè)、機械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù)，比如說(shuō)光學(xué)元件的鍍膜、延長(cháng)模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術(shù)、人工關(guān)節、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步，才能開(kāi)發(fā)完成。等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機，因此將挑戰性，也充滿(mǎn)機會(huì )，由于半導體和光電材料在未來(lái)得快速成長(cháng)，此方面應用需求將越來(lái)越大。