等離子清洗機原理與超聲波原理不同，當艙體里接近真空狀態(tài)時(shí)，開(kāi)啟射頻電源，這時(shí)氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，并且伴隨輝光放電現象，等離子體在電場(chǎng)下加速，從而在電場(chǎng)作用下高速運動(dòng)，對物體表面發(fā)生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時(shí)氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。

    等離子清洗機不需要其他的原料，只要空氣就能夠滿(mǎn)足要求，使用方便而且沒(méi)有污染，同時(shí)比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢是等離子不但可以進(jìn)行表面清洗，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面進(jìn)行化學(xué)反應能夠產(chǎn)生活性化學(xué)集團，這些化學(xué)集團有很高的活性，從而應用范圍很廣，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，親水性等等很多方面，因此等離子清洗已經(jīng)成為清洗行業(yè)的主流與趨勢。

    等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

    等離子清洗機技術(shù)的zui大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗。

    等離子清洗機還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：容易采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。