一、表面改性-等離子清洗機、紫外臭氧清洗機

CIF等離子清洗設備在自動(dòng)化、智能化進(jìn)行了技術(shù)升級，使得產(chǎn)品性能更加穩定，操更加作簡(jiǎn)單方便，更易維護。尤其是合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。廣泛應用于材料學(xué)、微電子、半導體、線(xiàn)路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫學(xué)等領(lǐng)域，用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等。

1、CIF科研型等離子清洗機系列產(chǎn)品

2、CIF行業(yè)專(zhuān)用等離子清洗系列產(chǎn)品

3、CIF紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品

CIF紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品采用長(cháng)壽命UV石英低壓汞蒸汽格柵燈，樣品臺高度可調并可選加熱控溫，能快速去除大多數無(wú)機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物，達到最佳清洗效果。

二、表面去膠-等離子去膠機

CIF等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹(shù)脂、MEMS制造過(guò)程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。

三、表面刻蝕-等離子刻蝕機

CIF反應離子刻蝕機，采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式，實(shí)現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所，微電子、半導體企業(yè)實(shí)驗室進(jìn)行介電材料（SiO2、SiNx等）刻蝕、硅基材料（Si，a-Si，poly Si）刻蝕、III-V材料（GaAs、InP、GaN等）、濺射金屬（Au、Pt、Ti、Ta、W等）等基材及復雜的幾何構形進(jìn)行RIE反應離子刻蝕