等離子刻蝕機就是用化學(xué)的、物理的或同時(shí)使用化學(xué)和物理的方法，有選擇地把沒(méi)有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜層除去，從而在薄膜上得到和抗蝕劑膜上*一致的圖形。簡(jiǎn)單點(diǎn)說(shuō)就是通過(guò)刻蝕技術(shù)在薄膜上繪制不同的圖形，得到工藝要求的圖案。在半導體工藝，等離子刻蝕機按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù)。

    等離子刻蝕機技術(shù)分為干法刻蝕和濕法刻蝕，濕法刻蝕主要是指化學(xué)刻蝕，干法刻蝕主要指等離子刻蝕和激光刻蝕。

    等離子刻蝕機的原理與激光打標機相同，即通過(guò)高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬間氣化形成圖案、文字等。而與打標機相比要求的精度更高，對材料表面的加工精度要求也更高，通常激光刻蝕機用在觸摸屏行業(yè)內的ITO刻蝕，銀漿刻蝕等。

    在早些年前激光刻蝕機在行業(yè)內幾乎都統稱(chēng)為觸摸屏激光刻蝕機，在觸摸屏行業(yè)內得到了廣泛應用，手機電阻屏、電容屏的發(fā)展也讓激光刻蝕機廠(chǎng)家發(fā)展發(fā)生了質(zhì)的變化，主要體現為ITO玻璃激光刻蝕、銀漿玻璃激光刻蝕等，也有一部分是ITO薄膜與銀漿薄膜刻蝕。

    而隨著(zhù)手機行業(yè)的發(fā)展，OLED的崛起，觸摸屏行業(yè)的等離子刻蝕機逐漸呈現飽和趨勢，激光刻蝕機廠(chǎng)家也隨之加大對材料應用的研發(fā)投入和應用方向的投入，太陽(yáng)能、光伏行業(yè)將會(huì )成為激光刻蝕機下一個(gè)重要發(fā)展領(lǐng)域。

    太陽(yáng)能光伏行業(yè)的一些采用應用包括金屬合金薄膜材料，如鋁薄膜，銅薄膜，鎘薄膜，合金薄膜等。也有一些玻璃鍍層和特殊材料鍍層的應用，如碳納米玻璃材料應用。